等离子抛光技术是否能够实现样件表面微观整平，利用离子放电原理，使放电通道更多的是在微观凸起的位置形成，则微观凸起位置的材料优先去除，表面粗精度降低。一定条件下抛光所能达到的粗糙度值取决于放电所形成的坑痕的深度，坑痕深度越小，粗糙度值越小。对于抛光开始阶段呈现出的粗糙度快速下降趋势，是因为在抛光的前5分钟，由于样件表面存在明显凹凸不平的状态，而凸起的位置电场强度大，因此放电通道更多地选择在凸起的位置形成，粗糙度下降速度快，随着抛光时间的延长，样件凹凸不平的状态得到改善，放电通道更多在微观凸起位置形成的趋势减弱，因此粗糙度下降的速度减小。
抛光液的温度越低，材料的去除速度越快。低温条件下材料的去除速度快主要是因为: 温度越低，抛光液被蒸发需要吸收的热量就越多，相同条件下生成的气体越少，包围在零件周围的混合气体层越薄，而在压强和电压不变的情况下，气体变薄就意味着电场强度增大，导致碰撞电离系数显著增大，虽然总的碰撞距离减小，但仍然有更多的电子冲击到工件表面，材料的去除速度当然更快。但在抛光液低温情况下，混合气体层较薄，也意味着气体层不太稳定，等离子抛光过程中断并转变一般电解的的可能性越大，同时气体层薄也意味着系统的电阻减小，电流增大，且电流值大幅度变化，常常引起零件尖锐部位烧蚀等现象，这对复杂形状零件和大尺寸零件来说特别明显。随着抛光液温度的提高，等离子纳米抛光过程开始稳定，90-100属于理想加工温度范围，在这一范围内材料的去除速度虽然不是快，却更容易获得更好的表面质量。温度继续升高将导致抛光液气化增强，混合气层温度升高厚度增加，加工时间也相应延长。当抛光液温度达到95-99°C时，等离子加工过程转到泡沫状态。抛光液沸腾，蒸气气层失去自身的尺寸和形状整个零件处于连续移动的泡沫中，其电阻与等离子理想加工状态的气层电阻值相比大大提高，此时被加工表面电流也会减小。
等离子抛光设备的技术水平目前国外有着较长的研发历史和经验，其产品在国际市场上有着较高的竞争力和认可度，中国在等离子抛光技术方面起步较晚，虽然近年来有所发展，但仍存在一定的技术差距，尤其是在等离子体生成、控制和稳定方面。市场占有率方面。国外在等离子抛光设备市场上占据着较大的份额，其产品广泛应用于手机电子、数码配件、集成电路制造、运动器材、眼镜制造、不锈钢洁具、餐具、器械、手表饰品、汽车配件等领域。中国在等离子抛光设备市场上还有很大的发展空间。
如果不采用等离子抛光技术的话，其他的表面处理方法可能会增加工艺的复杂性和成本，也可能会对工件表面造成一些不利的影响，如热损伤、应力集中、表面裂纹等。如果采用自动化或智能化的控制系统可能会增加设备的技术难度和维护要求，也可能会出现一些故障或误差，影响抛光效果和安全性。在优化工艺参数可能会受到一些限制或约束，如电源的容量、电极的材质、抛光液的成分等，也可能会引起一些副作用，如气泡的产生、电极的磨损、抛光液的分解等。在提高设备的性能、稳定性、寿命和可靠性可能会需要更多的研发投入和创新能力，也可能会面临一些技术壁垒或竞争压力，影响设备的市场占有率和利润率。因此，想要做到等离子抛光技术的可行性、有效性、普适性，我们的路还很远，很多问题都还需要进一步克服
